英特尔未来十年技术路线图被披露:2023年采用5nm 2029年升至1.4nm

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【TechWeb】12月11日消息,据国外媒体报道,芯片巨头英特尔在10nm和7nm工艺方面,并未跟上竞争对手的节奏,其目前在芯片工艺方面也落后于台积电和三星。

不过在10nm和7nm方面落后于竞争对手的英特尔,对未来还是有着清晰的计划,其在未来10年的技术路线图机会被披露,将保持两年一次升级的节奏。

英特尔未来十年的技术路线图,是由光刻机厂商阿斯麦的首席技术官Martin van den Brink在国际电子器件大会上披露的,由IEEE(电气和电子工程师研究会)所举办的这个大会在本周举行。

阿斯麦所披露的英特尔未来十年技术路线图显示,英特尔今年将刚开始采用10nm工艺,2020年是10++工艺,2021年则会推出10nm+++工艺。

10nm以前的7nm工艺将在2021年刚开始采用,7nm+和7nm++则会在以后的两年分别推出。对于7nm工艺,英特尔首席工程官兼技术、系统架构和客户部门总裁默西·伦杜琴塔拉(Murthy Renduchintala)在去年12月份曾透露,这个工艺是由有一2个 独立的团队负责,朋友 将汲取在10nm工艺上的教训,打算按内内外部最初的计划量产7nm工艺,朋友 对7nm工艺的进展也非常满意。

技术路线图显示,7nm以前更先进的5nm、3nm、2nm和1.4nm,也已进入了英特尔的视野,其中5nm、3nm和2nm目前都地处路线发现阶段,分别计划在2023年、2025年和2027年采用,2029年拟推出的是1.4nm。

同10nm和7nm工艺一样,5nm、3nm和2nm工艺也会有升级版,将分别推出“+”和“++”工艺,均会在以后的两年推出。

就从ASML披露的技术路线图来看,在10nm和7nm工艺方面落后于台积电的英特尔,5nm和3nm工艺的采用时间,也将晚于台积电。台积电5nm工艺的良品率目前机会提升到了30%,预计明年一季度量产,3nm则是计划在2022年量产,均要早于英特尔3年。